Trong các dự án chống ăn mòn thép cầu, lớp phủ kẽm phun nhiệt được sử dụng rộng rãi như một lớp bảo vệ quan trọng để cách ly thép khỏi các ion ẩm, oxy và clorua. Tuy nhiên, một số dự án gặp phải tình trạng độ bám dính của lớp phủ không đủ trong thời gian sử dụng ban đầu hoặc giai đoạn thi công ban đầu.
Dây kẽm quyết định trực tiếp đến chất lượng hình thành hạt nóng chảy trong quá trình phun nhiệt. Nếu tiêu chuẩn vật liệu không nhất quán, tính đồng nhất của cấu trúc vi mô lớp phủ có thể bị ảnh hưởng.
Độ tinh khiết của dây kẽm thường nằm trong khoảng 99,9%–99,995%. Mức tạp chất cao hơn như sắt, chì hoặc oxit có thể ảnh hưởng đến độ đồng đều nóng chảy.
Nếu đường kính dây kẽm thay đổi đáng kể, tốc độ cấp liệu sẽ không ổn định, ảnh hưởng đến độ ổn định hồ quang và trạng thái lắng đọng hạt.
Độ bám dính kém trong lớp phủ thép cầu thường không phải do một yếu tố duy nhất gây ra mà là do sự kết hợp của:
Chất lượng nổ không đủ hoặc độ nhám bề mặt không đồng đều làm giảm độ bền liên kết cơ học.
Sự thay đổi về khoảng cách phun, dòng điện, điện áp hoặc áp suất không khí ảnh hưởng đến hành vi lắng đọng hạt.
Sự thay đổi về độ tinh khiết của kẽm, dung sai đường kính hoặc khả năng kiểm soát quá trình oxy hóa bề mặt ảnh hưởng đến tính nhất quán của lớp phủ.
Nếu các điều kiện sau xảy ra, cần xem xét lại tiêu chuẩn dây kẽm:
Các biến thể về độ bám dính lặp đi lặp lại giữa các lô có thể chỉ ra các vấn đề về vật liệu hoặc quy trình mang tính hệ thống.
Sự phân bố hạt không đều thường liên quan đến độ ổn định nóng chảy hoặc độ tinh khiết của vật liệu.
Việc kẹt dây hoặc mất ổn định hồ quang có thể cho thấy vấn đề về kiểm soát đường kính hoặc chất lượng bề mặt.
Độ bám dính kém trong lớp phủ thép cầu hiếm khi do một yếu tố xây dựng nào gây ra mà là kết quả của sự tương tác giữa các tiêu chuẩn vật liệu, quy trình ứng dụng và điều kiện môi trường.
Trong đánh giá có hệ thống, các tiêu chuẩn dây kẽm—bao gồm độ tinh khiết, đường kính, chất lượng bề mặt và độ ổn định cấp liệu—nên được coi là các yếu tố đánh giá chính vì chúng ảnh hưởng trực tiếp đến cấu trúc cơ bản của lớp phủ.
Người liên hệ: Mr. xie